用于硅基鐵電電容器集成的niti、nial阻擋層研究_第1頁(yè)
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1、河北大學(xué)碩士學(xué)位論文用于硅基鐵電電容器集成的NiTi、NiAl阻擋層研究姓名：閆小兵申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別：碩士專業(yè)：光學(xué)指導(dǎo)教師：劉保亭20080601Abtsract暑皇!!皇量IIII=ilII=II墨AbstractNi—Ti，NiA1filmasconductivediffusionbarrierlayerandLa0sSro5C003film嬲electrodelayerforintegratingSi—baSedferroelect

2、ricrandomaccessmemory(FRAA9arepreparedonSi(001)atroomtemperaturebymagnetronsputteringmethod，andPb(Zro4噩o6)03(PZT)ispreparedusingsol—gelmethodLa05SrosC003／Pb(Zr04Tio6)03／Lao5Sro5C003／NiTdSi(LSCO／PZT／LSCO／NiTgSi)andLa05Sro

3、5C003／Pb(Zr04凰6)03／『LaJ05Sro5C003／Ni—A1／Si(LSCO／PZT／LSCO／NiAI／Si)ferroelectricheterostructureshavebeensuccessfullyfabricatedVarioustechniques，suchasxraydiffraction(XRD)，xrayphotoelectronspectroscopypeps)，atomicforcemicro

4、scopy(AFM)，transmissionelectronmicroscope(TE№andferroelectrictester(PrecisionLCuni0havebeenemployedtocharacterizethemicrostructure，morphologyinterface，andferroelectricpropertiesoftheferroelectriccapacitorsItisfoundthatlo

5、wpowerpreparedamorphousNiTifilmcouldbeusedasconductivediffusionbarrierlayerforintegratingferroelectriccapacitorsonSiTheinterfacesofPb(Zro4豇o6)03／La05Sro5C003／Ni—Ti／Siheterostructureareverycleanandsharp，indicatingneaction

6、andinterdifmsionattheinterfacesNiinNi豇fihnisnotoxidizedandstillremainsmetallicstateafterannealingGoodtransportpropertyofLSCO／Ni—Ti／SiheterostructureimpliesthecontactsbetweeninterfacesareohmicTheLSCO／PZT／LSCOcapacitormeas

7、uredat5V，possessesverygoodferroelectricproperties，suchassmallcoercivevoltage(128V)andhi曲remnantpolarization(279|lC／cm2)，andgoodfatigue—freeandretaincharacteristics，indicatingthatamorphousNi—Tifilmisallidealcandidateforth

8、econductivediffusionbarrierinfabricatingtheSibasedferroelectficrandomaccessmemoriesImpactsofdepositionpoweronthemicrostructuralandphysicalpropertiesofNi—TifilmhavebeenstudiedItisfoundthatthereisastrongcorrelationbetweend

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