基于納米壓印技術的亞波長抗反射結構光學器件研究.pdf

1、亞波長結構光學器件因其優(yōu)越的光學特性，在空間探測、消費電子等多個領域有著廣泛的應用。基于玻璃襯底的亞波長抗反射結構具有高損傷閾值、寬譜段和大視場等優(yōu)點，能改善傳統(tǒng)光學薄膜材料受限、附著力差和熱脹失配等不足，可用于高功率激光系統(tǒng)中光學元器件的表面減反。本論文主要對玻璃襯底亞波長結構的抗反射特性開展相關的理論與實驗研究。
　　采用嚴格耦合波理論，研究二維單臺階和連續(xù)面型亞波長結構的抗反射特性，主要分析了結構參數(shù)及排列方式對反射率的影響

2、。針對高功率激光系統(tǒng)中的常用波段，分別設計了六角排列的圓錐面型和拋物面型亞波長抗反射結構。模擬結果表明，圓錐面型和拋物面型結構在波段0.33-1.35μm內(nèi)分別實現(xiàn)了低于0.2%和0.3%的反射率。
　　納米壓印技術被譽為下一代光刻技術，廣泛用于亞波長結構光學器件的制作。本論文采用熱壓印和紫外壓印工藝，分別在K9玻璃襯底上制備方形排列的圓錐面型亞波長結構；利用熱壓印工藝制備的圓錐面型結構的有效面積大于20mm×20mm，將波長1.